别再等EUV光刻机了中芯世界N加1工艺方案投产本钱大幅下降

别再等EUV光刻机了！中芯世界N+1工艺方案投产，本钱大幅下降！据悉，在本年的3月6日，我国中芯世界公司向荷兰ASML公司订货的光刻机总算抵达坐落深圳的厂区，但是，这次光刻机尽管是来了，但仍然不是咱们心心念念的那个EUV光刻机，很多人以为，没有EUV光刻机，我国就无法打破最新的芯片工艺，假如咱们还抱着这个主意，那就是大错特错了，实际上，咱们现在彻底不用去等中芯世界向咱们“布施”EUV光刻机，因为中芯世界现已研制出了全新的工艺。

早在上一年年末，中芯世界CEO梁孟松就对外泄漏，现在中芯世界现已成熟地把握14nm FinFET 制程工艺，并开端方案14nm中端芯片的量产，此外，梁孟松还泄漏中芯世界最新研制出了N+1和N+2工艺，这两种工艺十分挨近现在最为盛行的7nm工艺，其间N+1工艺方案于2020年正式投产，这个音讯无疑像一枚重磅炸弹掀翻了我国半导体职业。

据悉，中芯世界最新研制的N+1工艺比较自家研制的14nm工艺本钱更低，并且最重要的是，这种工艺无需光刻机就能够生产出7nm芯片！梁孟松表明，比较上代芯片工艺，N+1工艺生产出的芯片在功能上有着20%的提高，一起，功耗更是得到了大幅下降，不仅如此，SoC面积和逻辑面积更是折半，这也就也代表着，中芯世界的N+1工艺其实可彻底比美台积电的7nm工艺，只是在功能上还差一丢丢。

近来，中芯世界又宣告N+1工艺在不久后将正式投产，这种工艺能够以更低的本钱制造出更优秀的芯片，别的，因为本钱下降，搭载N+1工艺芯片的手机或将成为新一代的“性价比之王”。此外，中芯世界负责人表明该公司现在还在大力霸占N+2工艺技能上的难题，一旦成功，这种工艺简直能够和7nm EUV工艺等量齐观，乃至说能够占到10%的优势。

梁孟松还泄漏，尽管N+1工艺没有用到ASML的极紫外光刻机，也无需进口任何贵重设备，但N+2工艺仍是需求EUV光刻机进行技能上的支撑的。中芯世界现在正方案先逐步完善N+1技能，然后再进一步探究N+2技能，别的，中芯世界现在还在与ASML公司进行商谈，并有望拿到真实的EUV光刻机。